삼성전자는 업계 최초로 '1테라비트(Tb) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작하며 낸드플래시 시장에서의 리더십을 공고히 했다고 23일 밝혔다.
TLC는 하나의 셀에 3비트(bit) 데이터를 기록할 수 있는 구조를 의미한다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰다.
더미 채널 홀은 셀 어레이에서 플레인을 구분하기 위해 만들어진 동작을 수행하지 않는다. 삼성전자는 이에 대한 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며, 그에 따라 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피·수명 연장 기술을 적용해 제품 품질과 신뢰성을 높였다.
삼성전자의 '9세대 V낸드'는 더블 스택 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로, '채널 홀 에칭' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정 혁신을 이뤄 생산성 또한 향상됐다.
채널 홀 에칭은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한번에 전자가 이동하는 홀을 만드는 기술이다. 특히 적층 단수가 높아져 한번에 많이 뚫을수록 생산 효율 또한 높아져 정교화∙고도화가 요구된다.
'9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 '토글 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 구현했다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대해 낸드플래시 기술 리더십을 공고히 할 계획이다.
또 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재하여 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐다. 환경 경영을 강화하면서 에너지 비용 절감에 집중하는 고객들에게 최적의 솔루션이 될 것으로 기대된다.
허성회 삼성전자 메모리 사업부 플래시 개발실장(부사장)은 “낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량∙고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"고 말했다. 이어 “9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속·초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 부연했다.