나노일렉트로닉스(주), 초미세 나노구조 복제 상용화 기술 확보…상용화 추진

▲나노일렉트로닉스(주)는 10월 28일 나노종합기술원과 기술이전협약을 체결했다. (왼쪽부터) 정정환 나노일렉트로닉스 연구소장, 남궁지 나노종합기술원 기획협력부 부장

나노일렉트로닉스(주)가 나노종합기술원(이하 '기술원')과 '초미세 나노구조 복제 상용화 기술' 이전협약을 체결했다고 29일 밝혔다.

이를 통해 나노일렉트로닉스(주)는 나노종합기술원이 개발한 '초미세 나노구조 복제 상용화 기술'(특허명: 나노 임프린팅 장치 및 방법)의 실시권을 확보하고, 이를 기반으로 향후 상용화 검증 및 산업 적용 확대에 나설 예정이다.

금번 기술이전은 나노종합기술원(연구책임자 박재홍 박사)과 단국대학교(연구책임자 오준균 교수)가 함께 연구개발을 수행한 과기정통부 2024 미래나노소재원천기술개발사업(과제명: 나노구조 기반 항균 방오 동시 구현 소재 개발)의 1단계 성과를 산업 현장에 조기 적용하는 것을 목표로 추진됐다.

앞서 나노일렉트로닉스(주)는 해당 사업의 공동 연구개발기관으로 참여했으며, CES 혁신상 및 환경부 장관상(환경창업대전 대상)을 수상한 바 있는 유망 기업이다.

이번에 이전받은 기술은 코로나19 감염성 질병에 의한 국가적 위기 대응과 공공 및 개인위생 증진을 위해 나노구조를 통해 인체에 안전한 물리적인 항균기작을 보이는 필름을 개발하는 과정에서 개발된 기술이다. 기술의 구조적 기반인 초미세(100 나노미터 이하) 나노구조를 대량으로 복제 생산하는 것에 최적화된 장치, 방법 및 소재에 대한 기술이다.

특히 롤 사이에 폐곡선으로 장착된 나노구조 성형필름부와 그와 인접하여 2차원적 면상으로 접촉되어 복제될 필름이 위치한 형태의 '필름 대 필름 나노구조 복제성형 구동부'를 구성, 이를 통해 나노구조 임프린팅 복제 해상도의 한계인 1000 나노미터 수준의 구조 복제 크기 해상도를 극복했다. 이에 최소 100 나노미터 이하의 구조 해상도를 구현할 수 있는 방법, 장치 및 소재에 대한 기술이다.

해당 기술로 기존에는 불가능했던 100 나노미터 이하 크기 수준의 정교한 나노구조의 대량 복제 생산이 가능해졌다. 이는 극미세 나노구조에서 발현되는 항균 방오성 확보를 위한 구조 표면적을 극대화할 수 있게 된 것이다.

실제로 기존의 롤투롤(roll to roll) 장치의 경우, 롤과 롤이 만나는 1차원적 선상에서 나노구조 몰딩 또는 임프린팅에 의한 성형이 실시되어 이에 요구되는 시간이 상대적으로 부족했다. 아울러 구조 성형 환경이 기계적 및 열역학적으로 불균일하고 비안정적인 메커니즘을 보였다. 이에 1000 나노미터 이하 선폭구조의 복제가 불가능하거나 그 성형도(몰드구조 치수 대비 복제구조 치수 정합률)가 낮다는 한계점을 가졌다.

이번에 이전받은 기술은 이러한 한계성들을 근본적으로 극복할 수 있는 원천기술이다. 또한 지금까지의 나노구조 복제 관련 소재, 공정, 장비를 최적화하여 나노구조의 대량 복제와 생산이 가능한 상용화 수준의 기술이라는 점에서 나노융합기술 산업화 실현을 위한 오랜 노력의 결과이자 상용화를 위한 최적의 기술로 평가받고 있다.

본 기술의 성공적인 사업화를 통해서는 향후 10년 이내 공공안전 및 개인위생 증진 관련 제품의 산업적 적용으로 최소 2000개 이상의 일자리 창출이 기대된다. 아울러 2026년 기준 연간 5500억 원 이상의 직접 관련 시장(항균제 시장) 진입을 내다보고 있으며, 나노일렉트로닉스(주)가 기획 중인 제품의 신시장과 간접 시장까지 고려하면 위 직접 시장의 최소 5배 이상 규모 시장으로 진입할 것으로 기대를 모은다.

한편 해당 기술의 주 발명자인 박재홍 박사는 20년 이상 '초미세 나노구조화 기술' 개발을 수행하는 과정에서 4건의 기술이전을 수행했다. 이에 그 공로를 인정받아 대한민국 과학기술정보통신부 장관상(첨단기술 개발 유공) 및 대한민국 산업통상자원부 장관상(나노융합기술 산업화 유공)을 수여받은 바 있다.

박성준 기자 mediapark@ekn.kr