이재명 대통령 “EUV 신속 도입” 지시에…가스안전공사, 네덜란드까지 날아가 검사했다

▲ASML의 극자외선(High-NA EUV) 노광 장비. 사진= ASML

이재명 대통령의 “첨단 반도체 핵심 장비인 EUV(극자외선 노광장비)를 신속히 도입할 수 있도록 지원하라"는 지시가 현장의 발 빠른 실행으로 이어지면서 세계 최고 수준의 반도체 장비 도입 기간이 획기적으로 단축됐다.

22일 가스업계에 따르면 한국가스안전공사는 국내 반도체 기업이 EUV 장비를 신속하게 도입할 수 있도록 지원하기 위해 기존의 검사 방식을 과감히 바꿨다. 가스안전공사는 검사원을 네덜란드 ASML 생산공장에 직접 파견해 생산 단계에서부터 검사를 진행하는 새로운 방식을 도입했다. 국내 도착 후 다시 검사를 기다리는 시간을 없애기 위해 검사기관이 해외 현장으로 직접 찾아간 것이다.

EUV는 네덜란드 ASML만 생산할 수 있는 최첨단 반도체 노광장비다. AI 반도체와 7나노미터 이하 초미세 공정 생산에 반드시 필요한 핵심 설비로, 연간 생산량이 30여 대에 불과하다. 삼성전자, SK하이닉스, TSMC, 인텔 등 세계 반도체 기업들이 확보 경쟁을 벌일 만큼 공급이 제한적인 전략 자산이다.

이 같은 적극 행정은 이 대통령의 지시에 따른 것이다. 이 대통령은 국내 반도체 기업들이 팹공장 준공 일정을 앞당길 수 있도록 핵심장비인 EUV를 신속히 도입할 수 있도록 관계 부처에 지시했다.

이에 담당 부처인 산업통상부와 가스안전 검사업무를 맡고 있는 가스안전공사는 대통령 지시 직후 도입 절차를 줄이기 위해 관련 법령과 시행규칙 개정에 착수했다. 가스안전공사는 EUV를 '고압가스 안전관리법'상 특정설비로 전환하는 법령 개정을 신속히 추진하고, 관련 검사기준을 단기간에 마련하는 등 제도 정비를 속도감 있게 마무리했다.

이 같은 적극 행정으로 인해 EUV 장비의 국내 도입 기간은 기존 34일에서 9일로 25일 단축됐고, 공장 등록과 생산단계 검사 처리 기간도 50일에서 18일로 줄었다. 세계적으로 공급이 부족한 EUV 장비의 특성을 고려하면 하루라도 빨리 장비를 가동하는 것이 기업 경쟁력과 직결되는 만큼, 이번 개선은 반도체 업계의 부담을 크게 덜어줬다는 평가다.

가스안전공사의 적극적인 노력은 장비 제조사인 ASML도 인정했다.

가스안전공사는 21일 시넴 귀벤(Sinem Guven) ASML 부사장이 공사를 방문해 감사패를 전달했다고 밝혔다. 귀벤 부사장은 EUV 장비의 신속한 국내 도입을 위해 법령을 개선하고 검사체계를 혁신한 노력에 감사의 뜻을 전했다.

반도체 업계에서는 세계에서 가장 귀한 반도체 장비를 둘러싼 경쟁이 갈수록 치열해지는 상황에서, 대통령의 신속한 정책 결정과 이를 현장에서 적극적으로 실행한 가스안전공사의 규제 혁신이 국내 반도체 산업의 경쟁력을 높인 사례로 평가하고 있다.

박경국 가스안전공사 사장은 “안전 수준은 그대로 유지하면서 산업 현장의 불합리한 부담은 줄이는 것이 이번 제도 개선의 핵심"이라며 “앞으로도 첨단산업 경쟁력 강화를 위해 현장 중심의 규제 혁신을 지속해 나가겠다"고 말했다.

▲시넴 귀벤(Sinem Güven) ASML 부사장(왼쪽)과 박경국 한국가스안전공사 사장이 21일 충북 음성군에 위치한 한국가스안전공사 본사에서 ASML 감사패 전달 기념 사진을 촬영하고 있다. 사진=한국가스안전공사

윤병효 기자 chyybh@ekn.kr